产品描述
对于媒介和基体领域的工程师而言，识别纳米级缺陷是一个非常耗时的工作。Park NX-HDM原子力显微镜系统可借助数量级实现自动缺陷识别、扫描和分析，从而加快缺陷的检查过程。Park NX-HDM可与众多的光学检查工具直接进行连接，这就意味着自动缺点检查通量会大幅提高。此外，Park NX-HDM拥有精确的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着业内最低的本底噪声和独特的True Non-Contact™技术，Park NX-HDM毫无疑问是市面上表面粗糙度测量最精确的原子力显微镜。
对于媒介和基体领域的工程师而言，识别纳米级缺陷是一个非常耗时的工作。Park NX-HDM原子力显微镜系统可借助数量级实现自动缺陷识别、扫描和分析， 从而加快缺陷的检查过程。Park NX-HDM可与众多的光学检查工具直接进行连接，这就意味着自动缺点检查通量会大幅提高。
业内对于超平媒介和基体的要求越来越高，所以需要满足设备体积不断减小的需求。此外，Park NX-HDM拥有精确的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着业内最低的本底噪声和独特的True Non-Contact™技术，Park NX-HDM毫无疑问是市面上表面粗糙度测量最精确的原子力显微镜。
NX-HDM的自动缺陷检查功能(Park ADR)可加速和改良媒介和基体缺陷的识别、扫描和分析流程。借助光学检查工具所提供的缺陷位置图，Park ADR可自动定位这些位置并进行成像（分两步）：
(1) 缩小扫描成像，以准确定位缺陷。
(2) 放大扫描成像，以获取缺陷的细节。在真实缺陷测试中，我们可以看到相比于传统的方法，该自动功能可将缺陷检查通量提高10倍。
经过优化的扫描参数让两步式扫描更为快速：
(1) 快速的低分辨率搜寻式扫描，来准确定位缺陷。
(2) 高分辨率的放大扫描，来获取缺陷的细节。可调节的扫描尺寸和扫描速度参数能满足用户的所有需求。
借助独有的先进映射算法，从自动光学检测(APO)工具中获取的缺陷坐标图可准确地传入和映射至Park NX-HDM。该技术让全自动高通量缺陷成像成为可能。
Map of Defect Coordinates from an Optical Inspection Tool
业内对于超平媒介和基体的要求越来越高，所以需要满足设备体积不断减小的需求。此外，Park NX-HDM拥有精确的次埃米表面粗糙度测量功能。凭借着业内最低的本底噪声和独特的True Non-Contact™技术，Park NX-HDM毫无疑问是市面上表面粗糙度测量最精确的原子力显微镜。
探针磨损更低=高分辨率扫描更长久
无损式探针-样品接触=样品变化程度最小
避免参数依赖
探针磨损更快=扫描图像模糊
破坏性探针-样品接触=样品受损变化
高参数依赖性
形貌使用了低噪声Z轴探测器信号
宽带宽下0.02 nm的低Z轴探测器噪声
前沿和后沿无过冲
只需出厂前进行一次校准
自动化软件让NX-HDM的操作不费吹灰之力。测量程序针对悬臂调谐、扫描速率、增益和点参数进行优化，为您提供多位置分析。自动化软件会按照测量文件中预设的程序进行样品测量。Park的用户友好型软件界面让用户可灵活执行全系统功能。创建新测量文件只需要10分钟左右的时间，而修改现有的测量文件则需要不到5分钟的时间。
Park NX-HDM具有：
• 自动、半自动和手动模式
• 各自动程序的可编辑测量方法
• 测量过程实时监测
• 自动分析所获取的测量数据
离子化系统可有效地消除静电电荷。由于系统随时可生产和位置正离子和负离子之间的理想平衡，便可以稳定地离子化带电物体，且不会污染周边区域。它也可以消除样品处理过程中意外生成的静电电荷。
