10-22 14:30-15:30
主讲人：吴正龙
【讲座简介】
本次X射线光电子能谱（XPS）实验技术讲座主要涉及以下三个方面的内容。
1）谱峰重叠和干扰
在XPS分析中谱峰时常受到俄歇峰、等离激元损失峰的干扰,以及其它光电子谱峰的互干扰, 报告人结合实际工作中的一些案例讲述有关谱峰重叠干扰现象及解决方法，以帮助大家提高XPS的实验分析水平。
2）样品表面污染及清洁
XPS为主要的表面分析技术，样品表面污染是困扰XPS分析的一个重要问题。通过一些实际案例讲述表面污染对实际测量结果的影响以及如何避免表面污染、清洁样品表面。
3）XPS样品准备经验方法
样品准备是XPS分析的重要环节，报告人从一些实际工作出发，针对不同类型样品和不同XPS分析功能讲述有关XPS制样的经验方法。
这些经验方法具体实用，可帮助大家解决XPS分析中一些实际问题。本次交流有助于大家学习掌握XPS表面分析技术，提升XPS分析水平。
【主讲人简介】
吴正龙 北京师范大学教授
毕业于北京师范大学物理系凝聚态物理专业，获博士学位，材料光谱研究。现就职于北京师范大学分析测试中心，一直从事电子能谱分析、激光拉曼光谱分析、荧光光谱分析及相关教学工作。在电子能谱分析、光谱分析、大型仪器功能开发及运行管理中有丰富的经验。在科研方面主要从事半导体材料、发光材料、功能薄膜材料的研究。现担任国标委表面分析标准分技术委员会委员，制定和参与制定多项电子能谱分析方法国标。曾参加过《论表面分析及其在材料研究中的应用》（1998年分析科学现代方法丛书）和 《表面化学分析》 （2007上海市材料科学与工程研究生用书）编著。 出版过译著《表面分析（XPS和AES）引论》（2008年当代材料科学与工程翻译丛书）。
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