SIWD硅膜适合于电传导应用,根据不同测试可镀不同材料的涂层,可用于生物方面;该膜具有不同大小的基片、孔和膜厚。
NIWD膜是由低应力、平滑的氮化硅制备,具有电绝缘性和疏水性;根据不同测试可镀不同材料的涂层,可用于生物方面;该膜具有不同大小的基片、孔和膜厚。
OXWD二氧化硅膜具有电绝缘性和亲水性;根据不同测试可镀不同材料的涂层,可用于生物方面;该膜具有不同大小的基片、孔和膜厚。
采用低应力Si/Si3N4/SiO2薄膜制备,可根据用户需要镀不同的材料.基片尺寸、窗口大小、膜厚可根据需要定制。
基片参数
材料:Si;
涂层:无/根据需要镀不同涂层;
厚:300μm;
宽:6000μm;
长:6000μm;
薄膜参数
材料:Si;
厚:200nm;
薄膜:200x200μm;
孔:600x600μm;