锗衬底/基片

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北京飞凯曼科技有限公司

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外延生长级抛光锗基片 

晶体材料

Single Crystal Germanium, VGF /LEC grown, 高纯单晶

晶向

(1 0 0) / (1 1 1)

掺杂

Ga

Sb / As

直径

50.8 ± 0.25mm / 76.2± 0.25mm / 100.0 ± 0.4mm

厚度

325 ± 25um / 425 ± 25um / 500 ± 25um

晶向

( 100 ) α 0 ±β 0 , off angle α and accuracy β upon request

电阻率

0.8-40 Ω.cm

0.25-50 Ω.cm

迁移率

≥ 3000 cm 2 / V·sec

N / A

掺杂浓度

N / A

(0.1-3.0)×10 18 /cm 3

腐蚀缺陷密度

≤ 2·10 3 cm -2

≤ 5·10 2 cm -2

主定位边

(0-1-1)±0.5 deg, 16±1.0mm /22±1.0mm/32.5±1.0mm

次定位边

(0-1 1) )±5.0 deg, 8±1.0mm / 11±1.0mm /18±1.0mm

正面

Polished in Epi-ready Prime grade, 外延生长级抛光

反面

Polished / Lapping or etched, 抛光 / 研磨或腐蚀

包装

N2 filled , cassette / fluoroware, 25pcs / single piece, 100级洁净室真空冲氮包装,25片卡盒/单片币式

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