产品描述
UltraFast Innovations (UFI) EUV 阿秒多层反射镜
设计用于 330 阿秒脉冲 @ 65eV (19nm)
具有 38% 峰值反射率的多层镀膜
≤1Å 表面粗糙度超抛光基材
13.5nm 设计的 EUV 平面镜和 EUV 球面镜也可提供
UltraFast Innovations (UFI) 极紫外 (EUV) 阿秒多层反射镜专为控制、聚焦和整形阿秒脉冲而设计。 它们的多层镀膜以 65eV (19nm) 为中心，带宽为 6eV (1.8nm)，为 s 偏振光提供 38% 的峰值反射率。 这些反射镜支持时间持续时间为 330 阿秒的 EUV 脉冲。 UFI 极紫外 (EUV) 阿秒镜非常适合基于高次谐波 (HHG)、自由电子激光器 (FEL) 或其他量子光学应用的阿秒脉冲生成和整形。 提供直径为25.4mm的平面镜和凹面镜； 如果您的应用需要具有定制中心能量、带宽或其他规格的 EUV 多层反射镜，请联系我们。
通用规格
直径 (mm): | 25.40 ±0.13 | 基底: | Fused Silica |
后表面: | Commercial Polish | 镀膜规格: | Rs > 38% @ 65eV/19nm |
表面质量: | 10-5 | 镀膜: | EUV Multilayer (19nm) |
入射角 (°): | 5 | 有效孔径 (%): | 80 |
设计波长 DWL (nm): | 19 | 边缘: | Fine Ground |
表面粗糙度（埃）: | <1 | Center Energy (eV): | 65 ±2 |
Bandwidth (eV): | 6 | Supported Pulse Duration: | 330 attoseconds |
边缘厚度 ET (mm): | 6.35 ±0.20 |
产品型号
标题 | 产品编码 |
25.4mm Dia., 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Flat Mirror | #16-765 |
25.4mm Dia. x 250mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror | #16-766 |
25.4mm Dia. x 500mm EFL, 65eV, 5° EUV Attosecond Multilayer Concave Mirror | #16-767 |
技术数据
