应用领域：电子/电器/半导体
资料类型：其他资料
方案摘要
在半导体设备的生产过程中，许多 流程中都要用到各种酸类试剂。其 中最重要的是盐酸（HCl），其主要 用途是与过氧化氢和水配制成混合物用来清洁硅晶片的表面。由于半导体设备尺寸 不断缩小，其生产中使用的试剂纯度变得越来越重要，这是因为即使是少量杂质也 会导致设备的失效。国际 SEMI 标准规定的是金属杂质的最大浓度（SEMI 标准 C2707081 用于盐酸），而半导体设备的生产商对杂质浓度的要求往往更加严格，这样 就给试剂供应商带来了更大的挑战。其结果是，分析仪器也必须能够对更低浓度的 杂质成分精确检测。 电
