应用领域：电子/电器/半导体，纳米材料
资料类型：其他资料
Park的串扰消除技术不仅改善了扫描器弓形弯曲的缺点，还能够在不同扫描位置，扫描速率和扫描尺寸条件 下进行平直正交XY轴扫描。即使最平坦的样品也不会出现如光学平面,各种偏移扫描等曲率的背景。由此为 您在研究中遇到的所有极具挑战性的问题提供高精度的纳米测量。
方案摘要
