应用领域：电子/电器/半导体
资料类型：其他资料
磁控溅射系统：带有水冷或者加热（可加热到700度）功能，可达到到8“旋转平台，支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵，极限真空可达10-7 Torr，15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离，可以获得想要的均匀度和沉积速度。
方案摘要
