TESCAN Essence™ EBL套件包含软件模块，可通过Essence™电镜控制软件直接控制电子束曝光（EBL）工艺，从而高效地实现微米和纳米级结构与器件的原型设计。

2021年1月29日，TESCAN ORSAY HOLDING a.s. 正式发布 EssenceTM EBL（电子束曝光）套件，这是一款完全集成的专用的解决方案，可以配置在TESCAN SEM和FIB-SEM仪器上，它与TESCAN的快速静电束闸配合使用，为实验室研究提供了更多的可能，在满足对微米和纳米级结构及器件进行原型设计的同时，还可以实现SEM和FIB-SEM的成像及分析功能。

电子束曝光是一种使用聚焦电子束在覆盖有电子敏感膜（抗蚀剂）的表面上绘制图案的技术。该技术在原型制作中很常见，可在各种基板上制备具有特定形状、尺寸和材料成分的微结构和纳米结构，例如传感器、光子、等离子体、自旋电子器件、MEMS、微流体以及用于细胞生长的表面。

TESCAN TOF-SIMS及纳米成型方向应用产品经理Tomáš Šamořil 曾说：“在大学或其它机构的小型科研团队中，仪器通常由多个团队共享，因此功能多样性、易用性和可靠性是购买新设备时需要考虑的主要问题，通过将SEM或FIB-SEM的功能扩展到中级电子束曝光应用，就能够满足表征和原型制作的需求。”在SEM或FIB-SEM上增加电子束曝光技术后，研究人员可以充分利用这一平台的分析能力，在完成曝光过程后快速验证结构、尺寸或材料组成。电子束曝光（EBL）与聚焦离子束(FIB)和气体注入系统(GIS)技术提供的精密材料刻蚀，已被证明是一种强大的组合，可用于光子学、光学、等离子体、磁学、生物学及电子学中微米和纳米器件快速原型设计。

TESCAN EssenceTM EBL套件包括软件模块，该模块完全集成在TESCAN的EssenceTM电镜控制软件中，并使用开源的第三方图案编辑器KLayout执行所有必需的光刻步骤。这样使操作变得非常容易，简化了混合技术的设计过程，无需进行复杂的数据处理。

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导读

重大成果！电子束曝光（EBL）技术首次应用于蝉翅结构纳米柱的仿生制造！

领域：其他

标签：电子束曝光,EBL, SEM,FIB,扫描电镜，附件