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磁控溅射系统:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到到8“旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达到6"旋转平台,支持到4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 Torr的真空。通过调整磁控管与基片之间的距离,可以获得想要的均匀度和沉积速度。
NSC-4000(A)带有14”立方形不锈钢腔体,4个2”的磁控管,DC直流和RF射频电源。 在选配方面,350 l/s涡轮分子泵,额外的磁控管和衬底加热功能。
NSC-4000(A)全自动磁控溅射系统产品特点:
· 不锈钢腔体
· 260l/s或350l/s的涡轮分子泵,串接机械泵或干泵
· 13.56MHz,300-600W RF射频电源以及1KW DC直流电源
· 晶振夹具具有的<1 ?的厚度分辨率
· 带观察视窗的腔门易于上下载片
· 基于LabView软件的PC计算机控制
· 带密码保护功能的多级访问控制
· 完全的安全联锁功能
· 预真空锁以及自动晶圆片上/下载片
选配项:
· RF、DC溅射
· 热蒸镀能力
· RF或DC偏压(1000V)
· 样品台可加热到700°C
· 膜厚监测仪
· 基片的RF射频等离子清洗
应用:
· 晶圆片、陶瓷片、玻璃白片以及磁头等的金属以及介质涂覆
· 光学以及ITO涂覆
· 带高温样品台和脉冲DC电源的硬涂覆
· 带RF射频等离子放电的反应溅射
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