其它光学测量仪武汉月忆膜厚仪 应用于高分子材料有特定规范与标准，应用于电子/半导体行业领域。点击查看相关规范标准。

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二、膜厚仪产品特点：

（1）采用光谱干涉原理进行测量，具有非接触、无破坏、快速等特点；

（2）可在真空环境使用；

（3）可与大行程工件台配合，实现大面积膜厚自动测量；

三、主要技术指标：

（1）测量范围（VIS）：15nm—100μm    

（2）测量重复性（RMS）：0.086nm    

（3）测量绝对精度（与椭偏仪对比）：0.25nm    

（4）测量层数：大于3层；

（5）使用光源：卤素灯；    

（6）入射角度：90°    

（7）测试材料：透明或半透明薄膜材料；    

（8）光斑尺寸：20μm—3mm（可选）    

（9）测量时间：100ms—4ms

（10）通信接口：USB2.0    

武汉月忆神湖科技有限公司简称“武汉月忆"，是中国大陆的一家创新型科技公司，总部位于九省通衢-湖北武汉。

主营实验室仪器、试剂耗材等，旨在为半导体芯片制造、MEMS、钙钛矿太阳能电池以及微流体芯片制造等领域的广大科研工作者提供专业的解决方案和性能优异的产品，在仪器仪表－实验仪器装置行业获得广大客户的认可。

公司秉承“精工品质，用心服务"的经营理念，坚持“以客户服务为中心"的原则为广大客户提供优质的服务。

“买仪器 选月忆"，欢迎您来电垂询！

一、膜厚仪产品组成：

（1）测试主机

（2）光纤

（3）校正件

（4）测量头

（5）夹持装置

（6）手提电脑

（7）设备箱