SaphirVibro振动抛光机是为了制备无残余变形的表面而设计的。它是用于进一步材料表征的理想前序设备，比如EBSD（背散射电子衍射）、AFM（原子力显微镜）分析和纳米压痕或显微硬度测试。主要特点如下：
1) 可快速更换带磁性系统的抛光池
2) 自动频率控制，范围从60到120Hz
3) “Surface-Guard”功能降低试样磨料结晶和试样表面腐蚀的机率
4) 预先安装好的制备方案和耗材清单
5) 低工作噪音和吸振式结构设计
6) 软闭合式防护罩和排气接口
7) 可存储多达200个制备程序
振动抛光机技术参数：
- 抛光池内径：308mm
- 抛光布直径：300mm/305mm（12“）
- 接口：socket（根据配置不同）·USB·Ethernet
- 排气口径：Ø40mm
- 环境温度：10-40°C
- IP码：IP22
- 连接功率：0.25kVA
- 驱动功率：135VA
- 电源：220-240V 50/60Hz（1Ph/N/PE）100-120V 50/60Hz（1Ph/N/PE）
- 尺寸：宽x高x深510x300x590mm
- 重量（取决于设备）：≈45kg