Ionfab300IBD客户选择我们的离子束沉积产品，是因为它们可以生产高质量、致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供多样化的刻蚀和沉积方法，并且可以在同一设备上实现，从而提高系统的利用率。

我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统规格与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。多模式功能能够与其他等离子体刻蚀和沉积设备相集成，单晶圆传送模式或集群式晶圆操作，双束流配置，可以实现更低的表面薄膜粗糙度、更佳的批次均匀性和工艺重复性，以及精确的终点监测——SIMS，发射光谱。

Ionfab300IBE离子束刻蚀具有灵活性和均匀性，适用范围广。我们的设备具有灵活的硬件选项，包括直开式、单衬底传送模式和盒式对盒式模式。系统配置与实际应用紧密协调，以确保获得速率更快且重复性更好的工艺结果。多模式功能能够与其他等离子体刻蚀和沉积设备相集成，单晶圆传送模式或集群式晶圆操作，双束流配置，可以实现更低的表面薄膜粗糙度、更佳的批次均匀性和工艺重复性，以及精确的终点监测——SIMS，发射光谱。