LeicaEMACE200是一款低真空镀膜仪，具有离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能，或者同时具有这两种功能。可满足日常SEM需求，也可用于X-射线能谱及波谱分析，或者TEM铜网镀碳膜。采用全自动电脑控制，可完成抽真空、镀膜、放气等全过程，一键操作。采用流行的触摸屏控制，操作简单方便。

特点：

• 可选择离子溅射模式、碳丝蒸发镀碳模式，或者双模式，还可选辉光放电（用于网格表面亲水化）

• 采用专利设计的脉冲式碳丝蒸发方式，可精确控制碳膜厚度

• 可选配石英膜厚检测器，精确控制镀膜厚度，精度达0.1nm

• 全自动程序控制，自动完成抽真空，镀膜，放气等过程

• 触摸屏控制，简单方便

• 真空度≤7×10-3mbar

• 溅射电流：0-150mA可调

• 方形样品仓专利设计，样品仓尺寸：140mm（宽）×145mm（深）×150mm（高）

• 工作距离调节范围：30mm-100mm