THEIA 超快平面原子层沉积系统以高性能、稳定和灵活为特点，能够满足科学研究的各种需求，并且无缝衔接研发和生产之间的转换。
产品规格：
1. 专利技术SMFD-ALDTM，超快沉积速度为12-30nm/min
2. 低维护周期：平均每50μm沉积后维护一次
3. 专利阀门：可实现小于1ms的开关控制，寿命达到1亿次循环，在220℃下长期稳定工作
4. 薄膜不均匀度小于1%
5. 可容纳3片75-300mm基片，300×300×10mm的腔室
产品特点：
THEIA 解决了困扰ALD工艺多年的效率与维护问题。ALD虽然能够良好控制薄膜厚度和均匀性，但由于效率不高，市场容量仍然低于CVD。
ForgeNano拥有SMFD-ALDTM超快沉积技术，实现最快12-30nm/min的沉积效率，将ALD沉积效率提升到新的高度。同时，实现了前驱体高利用率和低维护成本。与CVD相比，THEIA的集成减排设计可以实现污染物零排放，避免环境污染问题，节约大量成本，为ALD工艺提供了新的参考标准。