使用Profiler2辉光放电光谱仪可以解密镀层工艺，分析镀层结构，获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息，从而改善工艺条件。适用行业包括金属冶金、半导体器件、LED芯片、薄膜太阳能电池、锂电池阴阳极、光学玻璃、核材料等。
GD-Profiler2是超快镀层分析的理想工具，适用于导体和非导体复合镀层的分析。操作简单、便于维护，是镀层材料研发和质控的理想工具。
该仪器采用脉冲式射频辉光源，可以有效分析热导性能差和热敏感样品。具有多项专利技术，如高动态检测器（HDD），可测试浓度范围为ppm-100%，专利Polyscan多道扫描的光谱分辨率为18pm~25pm。
分析速度快（2-10nm/s）。
仪器原理是：辉光放电腔室内充满低压氩气，施加在放电两极的电压产生辉光放电，放电气体离解为正电荷离子和自由电子。正电荷离子加速轰击到（邻极）样品表面产生阴极溅射，在放电区域内，溅射的元素原子与电子相互碰撞激化发光。