这款晶圆自动四探针电阻率计是四点探针型的半导体晶圆和电阻薄膜的电阻率特性测量仪器，它采用微处理器电路直接计算出V/I数值，表面电阻率,薄片电阻率,晶片电阻率,金属化厚度,PN结类型测试。
晶圆自动四探针电阻率计采用紧凑型设计，把电子电路和探针机械集成在较小外部结构中，采用坚固的铸铝外壳确保探针的安全性。
自动四探针电阻率计的探针头固定在坚固外壳中，与诸多四探针和探针台把探针头进入晶圆测量，我们的产品是把晶圆移动到探针头测量，这样就确保了恒定连续的探针力不受操作人员和经验厚度的影响而改变。

自动四探针电阻率计能够对探针重复定位，探针头采用可更换设计，电磁特性对电阻材料的干涉影响降低到最低水平。
全自动电阻率计采用微处理器电路，直接计算户V/I 值，薄片电阻率或晶片电阻率，金属化厚度和P-N结类型等指标。
电路和探针采用集成设计，并采用高级铝作为外主材，坚固耐用。

全自动电阻率计采用恒力探针头坚固地固定在外壳上，而探针头可以自由取下测量，这就确保了恒力操作，不受操作员的每次测量用力不同的问题和晶圆厚度不等的问题引入的误差。

全自动电阻率计配比了晶圆定位架，用于探针重复定位。

全自动电阻率计特点
操作方便简易
自动校准计算显示薄片电阻率或镜片电阻率， V/I值，金属化厚度和PN结类型
非常适合外延,扩散，离子注入和金属化层测量
内置每次测量自校准功能，仪器测量精度为0.5%
可编程控制

测量功能和范围

数字计算无误差直接显示薄片电阻率，从1.1毫欧盟/平方 到 450千欧姆/平方
镜片电阻：4.9x10^-2毫欧姆到17.1千欧姆-cm
V/I 值从0.25毫欧姆到99千欧姆
金属化层厚度从20A  到243KA
 

微处理器电路
自动测量
4选择显示
自动测量