产品特点

1、可对粉体材料进行表面包覆：采用磁控溅射，溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚，达到粉体表面均匀包覆

2、设备小巧可在手套箱内使用，可处理样敏感性材料

技术参数

1、输入电压：220 VAC 50/60Hz

2、电源输出:1600 VDC 250 W

3、最大电流：150 mA .

4、溅射头：2英寸角度可调节溅射头

5、振动样品台：

样品台振动频率可调节：6-33Hz

样品台直径为50mm

建议样品量: < 500 mg

建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um

石英腔体尺寸：165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H

6、真空度：

①1.0E-2 Torr（采用机械泵），可溅射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶

② 1.0E-5 Torr（采用分子泵），可溅射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金属靶最大真空度可达到< 4.0E-6 Torr（分子泵系统抽时间12小时，腔体进行烘烤）

7、CE认证

产品规格

外形尺寸：长460×宽330×高810mm  净重：20Kg

注意事项

警告：

1、溅射头与高压电源相连接，操作时必须佩带防护手套

2、溅射前必须确保靶材，溅射头，基片和样品台清洁，需要用砂纸和乙醇来清洗，Al或是Ni靶每次使用时都必须清洗和处理

注意：粉末样品必须干燥和分散