钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。

主要特点

1、样品位于真空室上方，蒸发源位于真空室下方，向上蒸发镀膜，且蒸发源带有挡板装置。

2、设有烘烤加热功能，可在镀膜过程中加热样品，最高烘烤加热温度为180℃。

3、设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。

技术参数

1、镀膜室：不锈钢材料，采用方形前后开门结构，内带有防污板，腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm

2、真空排气系统：采用分子泵+机械泵系统

3、真空度：镀膜室极限真空≤6×10^-4Pa

4、系统漏率：≤1×10^-7Pa

5、蒸发源：安装在真空室的下底上；有机蒸发源4个、容积5ml，2台蒸发电源，可测温、控温，加热温度

                      400℃，功率0.5KW；无机蒸发源4套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2KW；蒸

　　　　　  发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启

6、样品架：安装在真空室的上盖上，可放置?120mm的样品、载玻片，旋转速度0-30rpm

7、加热温度：RT-180℃，测温、控温

8、膜厚控制仪：石英晶振膜厚控制仪，膜厚测量范围0-999999A