产品描述
| 主腔室 | *1、2英寸高真空沉积系统，500mm直径； 2、椭圆形或者半球形，304#不锈钢，金属密封； 3、沉积配置：4个共焦窗口（NW100CF），4个共焦窗口（NW63CF）； 4、真空腔壁窗口：1x NW200CF，2x NW150CF，3x NW100CF，1x NW63CF和1x NW100CF做HREED窗口，1x NW63CF，7x NW35CF； *5、真空：1000l/s分子泵，快速机械泵，本底真空好于2e-10torr，真空规x1； *6、整体液氮冷却； 7、2.5kw加热系统； *8、3个10cc以上 Effusion cell； *9、合理的腔体结构设计及机械设计，确保系统可分别运行于MBE模式及PLD模式而无相互干扰。 *10、2英寸衬底上MBE及PLD薄膜厚度的均匀性均优于±5%； |
| 样品腔和传输 | 1、80l/s分子泵和机械泵 *2、真空优于5e-9torr，真空规x1； 3、手动控制与主腔室的阀门； 4、样品进入时带观察窗口； *5、除气加热装置； |
| 1100℃加热系统 | *1、1100℃连续钨丝加热，上限1200℃； 2、功率和温度控制； 3、zei大消耗2.5kw； |
| 样品旋转 | *1、20-80rpm速度； 2、直流电机控制； |
| PLD靶材holder及光路 | *1、可水平放置2个1 in的靶材； *2、各靶材可自转及公转，并在Z轴方向可调，确保激光能覆盖整个靶材 *3、靶材温度RT-200 ℃可调 *4、靶材与衬底距离20-200mm可调 *5、PLD光路设计合理，提供一套PLD光学透镜系统。 |
| 热蒸发源 | 1、共3个：NW63CF 10cc-1300℃； 2、NW100CF 35cc-1300℃； 3、NW100CF 100cc-500℃； *4、3个PBN10cc热蒸发源； 5、电源和阀门，铆合法兰，隔热材料/PBN； |
| 电子束蒸发 | 1、高真空兼容且能烘烤到250℃； *2、直径57mm，规格NW63CF； 3、4个分立自带高压的和密封的pockets； 4、溅射模式：共溅； 5、直接水冷，流量控制，500wzei大功率； 6、靶材与衬底可调距离：200mm； 7、源材料：直径2mm、长27mm的柱状源或者1cc的坩埚； *8、沉积速率：在靶材与衬底距离100mm时，：优于5nm/min（靶材为柱状），及20nm/min（靶材为坩埚）； 9、电动控制阀门； |
| RF离子源 | *1、射频源：50mm束斑； 2、标准长度：290mm； *3、zei高功率：600w，13.56MHZ； *4、自动调节，气体有氮气和氢气； 5、超高真空兼容； 6、整合电动控制阀门； |
| 配件 | 1、替代的硬件； 2、pc机； *3、驱动自动化； |
