PC 3012 NT VARIO DUO

VARIO®DUO真空系统是由两个独立的VARIO®真空系统组成，在进气口端并行连接，并通过一个CVC 3000控制器同时进行操控。真空条件可精确控制。两个独立真空泵的转速可以根据真空需求精确控制。控制器即可实现不需要用户预设的全自动蒸馏，又可以进行特定的、可重复地程序编程。可以通过数字或模拟界面集成到已有的控制系统中。超高的耐化学腐蚀的特性为化学和制药领域提供了极佳的解决方案 - 不需要水或者油等运行介质。

性能特性

• 整个过程真空度自动调节，过程稳定性高，操作过程无需过多干预

• 因其强大的真空泵，使过程时间很短，即使针对很大的气载量仍能提供精确的（无滞后）真空控制

• 可移动的CVC 3000真空控制器，安装灵活，多语言菜单，操作简单，采用数字或模拟接口便于集成

• 膜片寿命极长，将操作成本和维修成本降到最低

• 超低能耗、无运行介质（水或油）及高效的溶剂回收系统，使其成为一款环境友好的产品