KRI产品融合的一系列等离子技术提供了独一无二的操作与运行方式。这些技术使离子源与供电产品能够被正确的应用以便达到流程目标。此类技术基本上可以被分为几个类别：

• 无栅式端部霍尔(eh)离子源
         eH系列离子源可输出高离子流和低能源束。离子流达到高速运行需求的同时低能源束能够减少对设备外表面与内表面的伤害。

• 有栅极射频感应耦合等离子体(RFICP)离子源
         RFICP系列离子源可以在无灯丝的情况下提供高密度离子流.从离子流中提取的离子束能够被精确的控制以便提供设定的形状,电流密度以及离子能。

• 有栅极KDC离子源
         KDC系列离子源是根据典型的考夫曼离子源加强设计的。传统的离子源工艺使其能够输出高质、稳定的离子束。

• 电源与控制器
         我们的电源与控制器操作不同种类的离子、等离子以及电子源。这些产品能够为等离子流程中的动荷作用输出平稳、连续的电源。

• 电子源与离子源中和器
         这些电子源低能量、高电流源。它们一般应用于中和剂或阴极材料，以便控制离子源与等离子源的产量。

• PTIBEAM^TM离子透镜
         我们的离子束源采用耐融金属或石墨的多孔径网格。这些网格或是平的，或是中凹的，它们与多孔模式一同控制离子轨迹。离子轨迹的聚集产生了离子束，离子电流的分布塑造了该离子束的形状特征。