该设备在非导电和微导电试样表面制造等离子体形成金属薄膜，是电子显微镜（SEM）分析时必须进行的预处理设备。

主要特点

1.7英寸触摸屏，操作更简单    

2.抽真空→ 自动喷金 → 卸真空 触摸一步完成    

3.最多可以储存10个常用使用条件    

4.可以同时装载Φ14㎜ 大小的样品托    

5.电压值为1 to 10mA，防止喷金过程中样品损伤    

6.外观设计小巧简约，只需一点点放置空间

Vacuum Degree     2.0 x 10-2torr

Ion Current            1 to 10mA (1mA/step)

Target Material       Au or Pt

Chamber Size       Φ140mm(D) x 100mm(H)

Sample Stage       Φ50mm(D) x 30mm(H)

Target Size            Φ50mm(D) x 0.1(T)

Sputter Time         1 to 600sec (1sec/step)

Vacuum Pump      100L/min, Rotary Pump (Recommended)

Dimension             380(W)x 240(L) x 250(H)mm, 10kg