微粒晶片表面沉积系统
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微粒晶片表面沉积系统

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  • 型号2300XP
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产品描述
仪器简介:
高效率微粒表面沉积系统包括zei先进的气溶胶雾化发生、静电分离及沉积技术,用于产生可溯源NIST的PSL球及加工过程颗粒沉积在晶片表面的标准晶片,用于研究不同折射稀疏对晶片检测系统的影响并标定检测系统,也可用于评价晶片干法/湿法清洗系统的性能。

技术参数:
颗粒沉积粒径:
标准单DMA:0.08
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