Genius IF

多元素EDXRF光谱分析仪

采用二次靶技术

能量色散X射线荧光光谱仪Genius IF

       Genius IF提供了一种经济高效的元素分析解决方案。该能量色散X射线荧光（EDXRF）光谱仪可以对C（6）- Fm（100）范围内的多种元素进行亚ppm级别无损定性及定量元素分析。

       高度集成的光谱仪采用复杂独特的设计结合了自定义滤光片和二次靶技术，可放在传统实验室工作台上，适用于多种高端应用领域。 

无损元素分析

通过使用标样或无标样方法（基本参数）进行定性及定量分析。

硅漂移探测器（SDD）

高计数率及分辨率的SDD探测器，分辨率可达125eV，探测范围C（6）- Fm（100）。

X射线源

激发性能可达50kV，50W，Rh靶材料，分析浓度探测限范围可达亚ppm至100%，其卓越的性能可适用于复杂应用。

轻元素探测

超薄探窗能够实现对低序元素探测分析的优异性能。

二次靶技术及滤光片

采用专利几何结构，设计8个二次靶及8个自定义滤光片，可快速准确的测定痕量和微量元素。

Analytix专用软件

Analytix专用软件优异性能以及易用的GUI能够对项目分析和管理提供最快速直接的反应并得到结果。

定量分析算法

通过元素间修正进行多元回归分析（6个可用模型）。总计数、净计数拟合及数字滤波强度等工具。

二次靶技术

全能型元素分析仪

       Genius IF采用专利几何结构，设计8个二次靶并配备直接激发模式下8个自定义滤光片，使得仪器以最优的激发方式检测所有元素。WAG（广角几何）专利技术下的二次靶技术为痕量元素和微量元素的测量提供了最佳的解决方案。

       由X射线管激发产生的射线激发二次靶材料（纯金属）的特征K线，进而用于激发待测样品。通过使用二次靶技术，可进一步降低某些元素的检测限。更低的检测限意味着Genius IF能够异于传统EDXRF仪器而适用于更加广泛的用途，成为一款全能型多元素分析仪器。

二次靶技术与直接激发模式谱图对比：

       图中显示了峰背比提升的效果，其中蓝色轮廓部分代表使用了二次靶技术，而红色区域部分为直接激发模式的图谱。