主要技术参数

v  光学系统：帕型-龙格 罗兰圆全谱真空型光学系统

v  波长范围：140~680nm

v  光栅焦距：401mm

v  探 测 器：高性能CMOS阵列/CCD阵列

v  光源类型：数字光源，高能预燃技术（HEPS）

v  放电频率：100-1000Hz

v  放电电流：*大500A

v  工作电源：AC220V 50/60Hz 1000W

v  仪器尺寸：780*565*360mm

v  仪器重量：78kg

v  检测时间：依据样品类型而定，一般20S左右

v  电极类型：钨材喷射电极

v  分析间隙：4mm

v  其他功能：真空，温度，软件自动控制；压力，通讯监测

主要特点

v  高性能光学系统

采用高精度的CMOS元件可精确测定非金属元素如C、P、S、As、B、N以及各种金属元素含量；测定结果*准，重复性及长期稳定性**。

v  自动光路校准

自动光路校准，光学系统自动进行谱线扫描，确保接收的正确性，免除繁琐的波峰扫描工作；

仪器自动识别特定谱线与原存储线进行对比，确定漂移位置，找出分析线当前的像素位置进行测定。

v  插拔式透镜设计

真空光学系统采用独特的入射窗与真空隔离，可在真空系统工作状态下进行操作，光学透镜采用插拔式透镜结构，日常清洗维护方便快捷。

v  真空防返油技术

多级隔离的真空防返油技术，采用真空压差阀门保证真空泵不工作时真空光室与真空完全隔离；中间增加了真空滤油装置，确保真空泵中油不进入真空室，保障CMOS检测器及光学元件在可靠环境中工作。

v  开放式激发台

开放式激发台机灵活的样品夹设计，以满足客户现场的各种形状大小的样品分析；配合使用小样品夹具，线材*低分析可达到3mm。

v  喷射电极技术

采用国际***的喷射电极技术，使用钨材料电极，在激发状态下，电极周围会形成氩气喷射气流，这样在激发过程中激发点周围不会与外界空气接触，提高激发精度；配上独特氩气气路设计，大大降低了氩气使用量，也降低客户使用成本。

v  集成气路模块

气路系统采用气路模块免维护设计，替代电磁阀和流量计，电极自吹扫功能，为激发创造了良好的环境。

v  数字化激发光源

数字激发光源，采用国际最为先进的等离子激发光源，超稳定能量释放在氩气环境中激发样品；可任意调节光源的各项参数，满足各种不同材料的激发要求。