全球zei专业的RHEED分析系统(反射高能电子衍射能谱仪分析系统)，适合各种RHEED系统和薄膜沉积系统（如：脉冲激光沉积设备PLD,溅射系统Sputtering,分子束外延MBE, 金属有机化学气象沉积MOCVD等）！目前第四代系统结合优质的硬件和功能强大的软件为客户提供zei广泛的RHEED分析信息。

全球超过500个用户，国内如南京大学、中科院半导体所、电子部11所、中国科技大学、复旦大学、上海技术物理研究所等；

• CCD系统：高速、高分辨和高灵敏度

• 光学系统：RHEED定量分析及成像分析

• 标准接口法兰 

• 图像分析：单一图像分析（静态分析）模式，用户选择多图像模式，聚焦模式（实时剖面、表面区域形貌、表面等高分析），扫描模式，录像模式，交互图像叠加模式，2D和3D图像分析；

• 多个衍射特性实时显示分析，在沉积、退火等过程中；

• 实时薄膜沉积速率，精度达0.05%
• 原位表面诊断分析
• 功能强大的软件分析功能
• RHEED摇摆追踪检测

• 可扩展：Phase Locked Epitaxy (PLE), LEED, Auger/XPS,电子枪控制和摇摆曲线扫描；