技术参数：

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●节约环保设计理念，采用比阻抗控制技术，来抑制超纯水中静电的发生。
●在半导体制造和FPD制造、晶元（芯片）切割工序
中被用来对超纯水进行比阻抗的控制，防止 静电破坏和微粒子的附着。  

●Advanced resistivity control technology eliminates electrostatic charge in
high-purity water.
●Rinse water resistivity can be controlled in the best condition at the dicing
process of semiconductor industries or high pressure rising process at the FPD.

主要特点：

●可根据用途选择相应机型
●装机容易
全机型阻抗探头内置，配管容易。
●大水量，压力损失小
水量3000L/h时，压力损失0.06MPa
●操作简单，控制精度高
开机后只需输入所要阻抗值，即可马上进行±0.03MΩ/cm精确控制。
●可在高水压环境下运行
最高使用压力在0.5MPa,可以自由进行机种配置。
●水量变动应答速度快
使用水量发生很大变化时也能迅速做出调整控制。
●经济环保
不需要Co2溶解膜等旧式机种必不可少的高价的消耗品，Co2排气和排水也不要。
●双氧水杀菌对应
可用3%双氧水进行杀菌处理，细菌繁殖也不用担心。


机型 Rack type N4R-1.0-50 N4R-2.0-120 N4R-3.0-120
Model Cabinet type N4C-1.0-50 N4C-2.0-120 N4C-3.0-120
处理量 Water flow rate 100--1000L/h 200--2000L/h 300--3000L/h
控制范围 Controllable range 0.15--1.7MΩ/cm 0.15--1.5MΩ/cm 0.15--1.9MΩ/cm
精度 Control accuracy Set resistivity±0.03MΩ/cm
最大水压 Max.Inlet water pressure 0.5MPa
CO2压力 Max.Co2 pressure 0.7MPa
压力损失 Pressure drop 0.06MPa at 3000L/h
接口尺寸 Connection ports 3/4"female screw
重量 外形尺寸 Rack type 28Kg 480W*430L*250H(mm)
Weight Outside dimensions Cabinet type 67Kg 430W*430L*1350H(mm)
电源 Power supply AC100--130V,AC220--240V,50/60Hz,single phase 1A