Park NX-Mask

基于AFM的 EUV 掩膜修复及其他性能

  Park NX-Mask是一款用于修复高端EUV掩膜的创新型机台。Park NX-Mask 采用最新的原子力显微镜技术，配有新一代的光罩修复系统，用于解决随着器件尺寸缩小和光掩膜复杂性增加带来的新式挑战。从自动缺陷检测到缺陷修复再到修复验证的一站式解决方案为您提供了前所未有的修复效率，让您的研究工作事半功倍。

- 无任何类型的缺陷损坏和修复风险

- 兼容双EUV光罩盒

- 用于定位缺陷和修复后验证的多效合一型解决方案

使用AFM探针安全可靠地修复缺陷

来自 EUV 光源的锡 (Sn) 颗粒等碎片可能会落到光罩上并降低其光反射率，导致设备不能进行精确地压印。Park NX-Mask 利用其成熟的纳米机械 AFM 技术，以绝对安全可靠的方式发现并去除外来颗粒、修正复杂的图案缺陷。与传统的光罩修复系统相比，Park NX-Mask能在不造成任何损坏或扰乱光罩表面的情况下精准执行修复。

安全性能

- 无光束静电

- 无化学使用

- 无真空要求

卓越性能

- 纳米级分辨率和修复精度

- 在同一系统可实现检测扫描，到修复，到验证的功能

- 经济型高品质低成本

用于定位缺陷和修复后验证的非接触原子力显微镜技术

首先，Park NX-Mask 利用其独有的非接触式 AFM 技术进行全方位扫描以确定缺陷位置。此技术安全高效。在全方位扫描过程中，Park NX-Mask 不仅能精确计算缺陷数量并且精准定位缺陷位置，还能获悉每种颗粒和缺陷的各类信息。 修复后，Park NX-Mask采用AFM真正非接触式技术进行修复后的验证，生成纳米级3D形貌和其他关键性的计量数据，如表面粗糙度。