仪器简介：
又名：掩膜对准曝光机，曝光系统，光刻系统，光刻机等
全球领先的半导体设备供应商，多年来致力于掩膜对准光刻机和匀胶机研发与生产，并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域；该公司是目前世界上zei早将光刻机商品化的公司之一，拥有雄厚的技术研发力量和设备生产能力；并且其设备被众多著名企业、研发中心、研究所和高校所采用；依优秀的技术、精湛的工艺和良好的服务，赢得了用户的青睐。
感谢南开大学，中科院半导体所,中科院长春应化所，中科院物理所，浙江师范大学使用此设备做课题研究！！
此型号光刻机是所有进口设备中性能价格比zei高的型号，达到欧美品牌的对准精度，CCD显示屏对准更为方便，液晶触摸屏操作，采用欧司朗紫外灯，寿命长。整机效果皮实耐用，正常使用3年内不会出问题！！
目前，上海蓝光已采用该公司全自动型光刻机做LED量化生产，证明其品质达到LED产业标准要求！！

技术参数：
基片尺寸：4、6、8、12英寸，其他要求支持；
光束均匀性：<±3%；
曝光时间可调范围：0.1 to 999.9秒；
对准精度：1微米，zei高0.6微米（光刻胶厚度1微米时）；
分辨率：1微米；
光束输出强度：15-25mW/cm2；

主要特点：
光源强度可控；
紫外、深紫外曝光；
系统控制：手动、半自动和全自动控制；
曝光模式：真空接触模式（接触力可调），Proximity靠近模式, 投影模式；
真空吸盘范围可调；
专利技术：双面对准！
 可双面光刻，具有IR和CCD模式
双重CCD显微镜系统，zei大放大1600倍，显示屏直接调节，比传统目镜显微镜对准更方便快捷，易于操作。