可对应各种选配，膜厚的特制解析

椭圆偏振光测量仪FE5000应用范围

• FPD                           LCD,PDP,FED,有机El

• 半导体                       a-Si，poly-Si，其他

• 复合半导体                 半导体激光，强电介质                        

• 数据储存                     DVD,HDD,磁气头                       

• 光学材料                     膜，防放射膜      

• 膜                              AR膜   

FE-5000S
FE-5000的基础上追加了FE-5000S系列。FE-5000S虽然和FE-5000有相同的基本功能，但是价格低，省空间。光谱椭偏仪的用途也得到扩大。

功能进一步展开的光谱椭圆偏振光测量仪FE5000

高速高精度

纳米级的薄膜膜厚测量  

• 非接触非破坏实现多层膜的解析

材料表面光学常数（n.k）的测量 

• 可求得膜厚以及光学定数的波长分散

[膜厚，光学定数  (n:折射率、K：消光系数)、椭圆偏光仪（tanψ、cosΔ）]  

• 提供膜厚管理膜质管理有用的信息

通过400ch以上的多通道光谱法，迅速测量椭圆光谱

• 可实现一分钟以内的高速测量

• 光谱点多，所以坡度大的椭圆光谱也可正确测量

利用多波长光谱仪实现高精度高感度测量

测量反射角度可变，对应薄膜的高精度解析

可对应特制解析的材料物性和多层膜等的高度评价

• 利用有效媒质近似（EMA）可测量复素折射率的波长分散，混合结晶的混合比，界面的厚度等。

• 利用各种光学常数函数和膜model解析，可对应薄膜界面等的材料物性评价

• 利用多层膜fitting解析的光学常数测量实现了膜厚膜质管理

• 通过光学常数数据基础化和菜单登陆功能，改善了操作性