一、产品特点：

    1、面积大：0~Ø25毫米、0~Ø50毫米；

    2、溅射样品表面膜层更均匀；

    3、颗粒度更小（3nm左右）；
    4、溅射到样品表面能量低，对样品损伤小；（适用温度敏感性高的样品）
    5、可以溅射各种固体靶材（如各种金属、陶瓷、碳等）；
    6、控制精度高，实验结果精准可控重复性高；
    7、在同一真空腔内，可实现清洗和镀膜，降低污染样品造成的数据偏差；
    8、加入特殊气体，可进行反应离子束刻蚀；
    9、可实现的功能有：等离子清洗、镀膜等；
    10、数字化自动控制系统。

二、技术参数：

    1、真空度：极限真空度5*10-3Pa（不通氩气）；
    2、*高压：（1）200~6000V；
    3、样品台可旋转；
    4、具有自保护功能；

    5、单离子枪；

    6、样品冷却：半导体冷却（ 选配件）；

    7、支持手套箱。