技术参数：
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●超越新世纪的节约环保设计理念，采用当前zei先
进的比阻抗控制技术，来抑制超纯水中静电的发生。
●在半导体制造和FPD制造、晶元（芯片）切割工序
中被用来对超纯水进行比阻抗的zei优化控制，防止
静电破坏和微粒子的附着。
●创造划时代技术指标的zei优秀产品。

●Advanced resistivity control technology eliminates electrostatic charge in
high-purity water.
●Rinse water resistivity can be controlled in the best condition at the dicing
process of semiconductor industries or high pressure rising process at the FPD.
●Device breakage by electrostatic discharge or particles sticking by
electrostatic attraction can be prevented,and its effects improve product
yields greatly.


主要特点：
●可根据用途选择相应机型

●装机容易
全机型阻抗探头内置，配管容易。
●大水量，压力损失小
水量3000L/h时，压力损失0.06MPa
●操作简单，控制精度高
开机后只需输入所要阻抗值，即可
马上进行±0.03MΩ/cm精确控制。
●可在高水压环境下运行
zei高使用压力在0.5MPa,可以自由
进行机种配置。
●水量变动应答速度快
使用水量发生很大变化时也能迅速
做出调整控制。
●经济环保
不需要Co2溶解膜等旧式机种必
不可少的高价的消耗品，Co2排气
和排水也不要。
●双氧水杀菌对应
可用3%双氧水进行杀菌处理，
细菌繁殖也不用担心。