日立高新离子研磨装置IM4000

日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的混合模式带有两种研磨配置：

断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面以下结构高分辨成像。

平面研磨：将样品表面均匀研磨5平方毫米，从不同角度有选择地研磨，以便突出样品的表面特性。

日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的高通量能提高加工效率：与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间。（最大加工率：硅元素为300微米/小时--加工时间减少了66%。

日立高新离子研磨装置IM4000（HITACHI Ion Milling System IM4000  ）的可拆卸样品台装置：为便于样品设置和定义研磨边缘，可将样品台装置拆卸。

特点

混合模式：两种研磨配置

断面加工：将样品断面研磨光滑，便于表面高分辨观察

平面研磨：不同角度有选择地，大面积，均匀地研磨5 mm的平面，以突显样品的表面特性

高效：提高加工效率，与之前的E-3500型相比，采用新型离子枪设计，减少了横截面研磨时间(最大加工速度：硅材质为300 μm/h - 加工时间减少了66%)

可拆卸式样品台：为便于样品设置和边缘研磨，样品台设计为可拆卸型