小型溅射仪

磁控溅射优点

(1)沉积速率快,沉积效率高,适合工业生产大规模应用;

(2)基片温度低,适合塑料等不耐高温的基材镀膜;

(3)制备的薄膜纯度高、致密性好、薄膜均匀性好、膜基结合力强;

(4)可制备金属、合金、氧化物等薄膜;

KT-1650PVD是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压 电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明石英玻璃减少样品污染，样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。