GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力，它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。 仪器检测光谱范围从120到800纳米，最多配置58个通道，其他方法可能只是激发样品表面，所采集的数据并不一定具有代表性。而辉光放电，样品材料均匀地从表面激发溅射， 冷光源的激发为一些困难样品的检测提供了很好的技术。

辉光放电光谱检测方法利用低压，通过氩离子束对样品表面均匀溅射物质的非热能处理技术。溅射出的物质离开样品表面随后被原子化并在低压等离子放电区域被激发。GDS850A就是针对提高实验室进行过程控制和研究，以及研发的技术设计的。

这个型号的仪器可提供非常高的准确的元素总量分析以及对于涂层和表面处理的断面深度定量分析。其提供的光谱分析范围可从120nm 到800nm,元素分析通道可设置到58个。

Features 特性

• 溅射和激发的分离技术

• 具备宽动态范围的线性校准曲线

• 更少的自吸和物质再沉淀现象

• 几乎为排它的原子谱线激发

• 狭窄的特征光谱线及更少的干扰

• 更少的校准所要求的标准样品

• 少量的氩气消耗降低分析成本

• 每次样品分析间隔的阳极自动清扫