日本电子JEOL JEM-2200FS 200kV能量过滤场发射透射电镜镜筒内置式Omega过滤器日本电子株式会社(JEOL)

产品描述

产品特点

JEM-2200FS分析型电子显微镜配备场发射电子枪和Ω型内置式能量过滤器(Omega过滤器)。利用过滤器的功能，不仅可以进行样品中的元素分析，还能分析化学结合状态，从零损失像和能量过滤像中获得感兴趣的有用信息。
镜筒内置式Omega过滤器
镜筒内置式能量过滤器能获取高精度的能量过滤像及电子能量损失谱，优化设计的过滤器能提供无畸变的过滤像。
控制系统
电子枪、透镜、过滤器等电子光学系统、测角台、抽真空系统等全部由计算机控制。系统的稳定性高，因此能获得稳定的数据
成像系统
采用四级中间镜和两级投影镜的新成像系统，在很大的倍率和相机长度范围，实现了TEM像及衍射花样的磁转角补偿（无磁转角）。
压电陶瓷控制测角台
新的测角台采用了压电陶瓷控制，方便操作原子级的视场搜索。

产品规格

物镜种类*1	极高分辨率（UHR）型	高分辨率（HR）型	样品高倾斜（HT）型	样品冷却（CR）型	高衬度（HC）型
分辨率
点分辨率晶格分辨率	0.19 nm 0.1 nm	0.23 nm 0.1 nm	0.25 nm 0.1 nm	0.27 nm 0.14 nm	0.31 nm 0.14 nm
能量分辨率	0.8 eV（零损失 FWHM）
加速电压	160 kV，200 kV*2
电子枪
发射体	ZrO/W(100) 肖特基式
亮度	≧4×108 A／cm2 ?9?9 sr
真空度	×10-8 Pa 级
探针电流	探针直径为１ nm ，在0.5 nA以上
稳定度
加速电压	≦1×10-6／min
物镜电流	≦1×10-6／min
过滤器电流	≦1×10-6／min
物镜
焦距	1.9 mm	2.3 mm	2.7 mm	2.8 mm	3.9 mm
球差系数	0.5 mm	1.0 mm	1.4 mm	2.0 mm	3.3 mm
色差系数	1.1 mm	1.4 mm	1.8 mm	2.1 mm	3.0 mm
最小焦距步长	1.0 nm	1.4 nm	1.8 nm	2.0 nm	5.2 nm
束斑尺寸
TEM 模式	2 ～ 5 nm				７～30 nm
EDS 模式	0.5 ～ 2.4 nm		1.0 ～2.4 nm	-	4 ～20 nm
NBD 模式	0.5 ～ 2.4 nm		1.0 ～2.4 nm	-	-
CBD 模式	0.5 ～ 2.4 nm		1.0 ～2.4 nm		-
电子束衍射
衍射角(2α)	1.5 to 20 mrad 以上				-
取出角	±10 °				-
倍率
MAG 模式	×2,000 ～ 1,500,000	×2,000 ～ 1,200,000	×1,500 ～ 1,000,000		×1,200 ～ 600,000
LOW MAG 模式	×50 to1,500
SA MAG 模式	×10,000 ～ 800,000	×8,000 ～ 600,000	×8,000 ～500,000		×5,000 to 400,000
能量过滤像有效视场大小	选择10eV时，最终像平面（底片)上直径为80mm 选择2eV时，最终像平面(底片)上直径为25mm
相机长度
选区电子衍射	150 ～ 1,500mm	200 ～ 2,000 mm		250 ～ 2,500 mm	300 ～ 3,000 mm
EELS 散射
狭缝上	1.2 μm／eV, 200 kV
最终像平面	50 ～ 300 μm／eV, 200 kV
样品室
移动量(XY / Z)	2mm／0.2mm	2mm／0.4mm	2mm／0.4mm	2mm／0.4mm	2mm／0.4mm
倾斜角(X / Y) *3	±25°／±25°	±35°／±30°	±42°／±30°	±15°／±10°	±38°／±30°
倾斜角(X)*4	±25°	±80°	±80°	±80°	±80°
EDS*5
固体角*6	0.13 sr			-	0.09 sr
取出角	25°			-	20°

透射电镜使用电子穿透样品成像，实际上入射电子在穿越样品时会与样品发生复杂的相互作用，如果使用全部的透射电子成像，必然在细节上出现假象、失真甚至某些信息被掩盖。JEM-2200FS采用欧米伽能量过滤器，让透过电子穿过欧米伽形状的电磁透镜系统，具有不同电子的能量将被展开，我们可以选择零损失电子成像，还可以专门突出某种原子成像，非常方便。与此同时还可以获得样品的化学结合信息，可谓一举多得。欧米伽能量过滤器技术复杂，加工精度要求极高，目前只有日本电子（JEOL）可以做到。在世界多个领域获得良好应用：