日本电子IB-09060CIS低温冷冻离子切片仪    易受热损伤的样品
价格:面议

日本电子IB-09060CIS低温冷冻离子切片仪 易受热损伤的样品

产品属性

  • 品牌日本电子
  • 产地日本
  • 型号IB-09060CIS
  • 关注度1124
  • 信息完整度
  • 供应商性质生产商
  • 产地类别进口
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产品描述


安装条件


IB-09060CIS
电源单相100 ~ 120V±10%、50/60Hz、0.5 ~ 0.6kVA
接地线独立地线(100Ω以下)
氩气使用压力: 0.15±0.05MPa(1.0 ~ 2.0kg/cm²)
纯度99.9999%以上(氩气、气瓶及调压器由客户自备)
金属配管连接口:JISB0203 RC1/8
室温20 ~ 25℃
湿度60% 以下
  • *产品外观及技术规格可能未经预告而有所变更。

  • 产品规格


  • IB-09060CIS
    离子加速电压1 ~ 8kV
    倾斜角zei大±6º(0.1º/步)
    离子束直径500μm(FWHM)
    研磨速率5μm/min(加速电压:8kV、Si换算)
    使用气体氩气
    zei大样品尺寸2.8mm(长度)×1.0 mm(宽度)×0.1mm(厚度)
    样品冷却样品架冷却温度-120℃
    冷却到达时间1小时
    冷却保持时间8小时
    样品取出时间30分钟
    压力测试潘宁规
    主抽真空系统涡轮分子泵
    CCD相机内置
    尺寸 重量主机500mm(W)×600mm(D)×542mm(H)、70kg
    机械泵150mm(W)×427mm(D)×230.5mm(H)、16kg
    液晶显示器326mm(W)×173mm(D)×380mm(H)、3.7kg

  • IB-09060CIS™ 低温冷冻离子切片仪

  • 易受热损伤的样品,也能方便地制作出薄膜样品和截面样品。冷却保持时间长,有效地抑制了热损伤

  • 产品特点:

  • 带有样品冷却系统,对容易受热损伤的样品也可以进行截面制备的离子切片仪。

  • ①可以用于制备TEM的薄膜样品和SEM的截面样品*

  • ②通过液氮制冷,减轻了离子照射时对样品造成的热损伤。

  • ③冷却保持时间长,大大减少了热损伤。

  • ④在装有液氮的情况下,也可以交换样品。

  • *zei大样品尺寸:2.8mm(长度)×1.0 mm(宽度)×0.1mm(厚度)。


日本电子株式会社(JEOL)

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