Nanobase 高速大面积共聚焦拉曼成像系统 用于半导体工业
价格:面议

Nanobase 高速大面积共聚焦拉曼成像系统 用于半导体工业

产品属性

  • 品牌Nanobase
  • 产地韩国
  • 型号共聚焦拉曼成像
  • 关注度134
  • 信息完整度
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产品描述

Nanobase高速大面积共聚焦拉曼成像系统采用透射式光路设计,提高了产品的灵敏度和稳定性。*的振镜扫描技术能够在台面固定不动的情况下实现快速二维成像扫描。该技术在联用光电流成像系统载台时优势明显,并且可扩展增加荧光寿命检测系统。

 XperRam C series是基础款,采用一个532nm激光器激发,集成了奥林巴斯显微镜,可以测量样品的Raman/PL的光谱信号和mapping(Image)图像。光谱信号强,扫描速度快,。


详细介绍:

品牌其他品牌产地类别进口
应用领域医疗卫生,环保,生物产业,农业

图片.png


 

系统光路

 图片.png

 

 

拉曼成像mapping

 

 

图片.png

                                      (a)     MoS2 sample microscope image                 (b)50x50µm size 0.3µm step Intensity  image

                                        (c)     30x30µm size 0.1µm step Intensity image    (d)30x30µm size 0.1µm step Frequency image

 

 

 

产品特点:

  • 具有优异的扫描分辨率和重复性

(激光扫描分辨率< 0.02 um & 重复性< 0.1 μm)

  • 体相全息光栅光谱仪(光透过率>90%,比反射式光栅高30%,信号传输效率更高)

  • 具有Raman/PL等多种测量模式,可扩展为光电流成像功能

  • 结构紧凑,模块化设计

  • 扫描速度快,扫描范围大200µm x 200µm范围内高速成像 & 2D Mapping

应用领域:

石墨烯,二维材料,生物样本,

,碳纳米管,碳材料,太阳能电池,储能材料,纳米纤维分布,探测器光电性能检测,晶圆体分析,制药分析,纳米材料检测,生物细胞成像,微塑料检测,金刚石微粉检测。

 

基本参数

 

激光器

  • 一个CW DPSS激光器

  • 激光器波长:405nm/532nm/633nm(532nm通用型号)

  • 输出:大100mW

显微镜

  • 奥林巴斯显微镜:BX4X, BX5X, BX61 (正置)

  • 反射式/透射式LED照明

  • 物镜:标配(40X, NA=0.75)   选配:多种倍率和超长焦距物镜

  • 透过率:>60% (360nm~1000nm)

扫描模块

  • 扫描面积:200um×200um   (大)

  • 扫描精度: 小于0.02 um(分辨率), <0.1um(重复性)

  • 小步进:0.1um

  • 扫描速度:>20 谱/秒

探测器

  • 科学级TEC制冷ccd

  • 分辨率:1932×1452   Pixels

光谱范围

  • 大 203750px-1

  • 低:250px-1(需额外加低波数模块,通用型号1250px-1

光栅选择

  • 300/600/1200/1800/2400  lpmm (可选)

其它附加选项

  •  

  • 偏振控制

  • 功率控制ND滤波片

 


上海昊量光电设备有限公司

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