全自动磁控离子溅射仪在光学领域：中频闭场非平衡磁控溅射技术也应用于光学薄膜（如减反射膜）、低辐射玻璃和透明导电玻璃。

产品特点

• 液晶显示屏简便操作

• 自动抽真空做样

• 自动放气

• 溅射电流范围大

• 溅射效率高

• 颗粒度小

• 样品表面无温升

• 适用温度敏感性样品

应用领域

放置手套箱内，用于、易氧化需要保护的样品制备

技术指标

• 溅射电流：5-45mA

• 工作方式：全自动磁控

• 溅射电压：600V

• 靶材：金、铂（标配、二选一）

• 真空度：＜1Pa

• 真空泵：油封式旋片泵1L/s（可选配涡旋干泵）

产品特性
本仪器主要用于扫描电镜样品制备、电极材料研究等领域，液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小、样品表面无温升，适用温度敏感性样品等特点，可适用金、铂、银、钛、铬、铝、铜、铅等常用靶材。