全自动磁控离子溅射仪是物理气相沉积的一种。实现了高速、低温、低损伤。是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。其在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表面喷镀金、铂、钯及混合靶材等金属消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效率,另外可以使用喷碳附件对样品进行蒸碳,实现不导电样品的能谱仪元素定性和半定量分析
产品特点
液晶显示屏简便操作
自动抽真空做样
自动放气
溅射电流范围大
溅射效率高
颗粒度小
样品表面无温升
适用温度敏感性样品
应用领域
放置手套箱内,用于易污染、易氧化需要保护的样品制备
技术指标
溅射电流:5-45mA
工作方式:全自动磁控
溅射电压:600V
靶材:金、铂(标配、二选一)
真空度:<1Pa
真空泵:油封式旋片泵1L/s(可选配涡旋干泵)
产品特性
本仪器主要用于扫描电镜样品制备、电极材料研究等领域,液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动放气、溅射电流范围大、溅射效率高、颗粒度小、样品表面无温升,适用温度敏感性样品等特点,可适用金、铂、银、钛、铬、铝、铜、铅等常用靶材。