CVD镀膜技术是一种高科技的表面处理技术，它基于化学气相沉积原理，通过在高温高压下使预先加热的材料表面与气体反应生成新的材料并沉积在表面，从而形成一层均匀、致密、硬度高、化学情性好的薄膜。该技术广泛应用于制造电子元器件、光学器件、机械零部件等高精度、高可靠性的产品中，以增强产品的性能和附加值。

DynTHERM LP 分析仪适用于真空到一个大气压力之间的热重实验。不需要对天平加以吹扫气体，可直接进行腐蚀性气体和蒸气气氛的测量。分析仪可配备我们复杂的动态气体和蒸气进气设备 （FlexiDOSE-动态） 和 用于MS，GC 或 FTIR 的气体采样装置。

DynTHERM LP仪器具有下列的参数：

DynTHERM LP主要应用范围：

高温腐蚀研究

催化剂测试（例如硫化）

CVD镀膜