• 水平运动温和地抛光样品不引起机械应力

•  所得样品表面适用于背散射电子衍射（EBSD）或原子力显微镜分析（AFM）

•  对混合材料和不均匀样品都能达到完美的制备效果

 
无需使用危险电解液

•  替换电解抛光仪和危险电解液

•  结合VibroMet 2 与MasterMet二氧化硅抛光液，MicroCloth 抛光布对样品进行化学-机械抛光

 
设定后无需过多留心

•  样品在抛光盘中可自动开始振动抛光

•  12in [305 mm]直径抛光盘可同时制备多达18个样品

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VibroMet® 2振动抛光机可快速去除样品表面机械化制样后残留的细微变形层，从而得到无应力的制备表面，而不必使用电解抛光制备所必需的危险电解液。结合VibroMet 2与MasterMet 2二氧化硅抛光液对样品进行化学-机械抛光，可适用于背散射电子衍射（EBSD）或原子力显微镜分析（AFM）。不同于传统的振动抛光机，VibroMet 2可以产生几乎完全水平方向的振动，最大限度地提高了样品接触抛光布的时间。用户设定好程序后就可以离开，样品会在抛光盘中自动地开始振动抛光。