小图案尺寸 - 100nm 和 3300 lp/mm

采用高精度电子束光刻技术制作

负片图案设计

高分辨率显微镜载玻片靶采用高精度电子束光刻技术设计。这些图案蚀刻在光谱透射范围广泛 (DUV-VIS-NIR) 的 10 × 10mm² 熔融石英基底上，在该衬底上施加高光密度的铬层。通过去除铬层，形成尺寸低至 100nm 的图案。高分辨率显微镜载玻片靶提供优异的尺寸稳定性，并安装在金属显微镜载玻片支架中。每个靶上的负片图案允许结构透明，而背景被铬层阻挡。

高分辨率显微镜美国空军USAF测试目标板

高分辨率显微镜美国空军USAF测试目标板可确定透射光中物镜的分辨率极限，并由 59 个图案组成，水平和垂直排列的线图案为 7.5 至 3300 lp/mm。该测试目标板还具有 5 个直径在 4.0-0.25μm 之间的针孔，可用于微成像光学元件的详细表征。

高分辨率显微镜星测试目标板

高分辨率显微镜星测试目标板由 5 颗西门子星组成，其特点是星中心的锥形部分精确制造的最小宽度为 150nm。该测试目标板适合于确定具有高数值光圈的显微镜物镜的分辨率。

高分辨率显微镜检查板

高分辨率显微镜检查板的特点是 50 x 50 平方微米的正方形总尺寸为 9.0 x 9.0 平方毫米。检查板适合于测试图像歪斜和曲率，以及确定由于直线和锐边导致的图像质量。