公司介绍：

德国Microworks 公司成立于 2007年, 是卡尔斯鲁厄理工学院（KIT）微技术研究所 (IMT) 衍生的子公司。通过使用X 射线和激光LIGA技术，Microworks为客户提供高精度微结构的产品。在微纳米技术领域，Microworks代表着高精度。在一个晶片内或者从一个晶片到另一个晶片，其zei高纵横比和精度可以远低于1µm。其产品涵盖相衬成像光栅、微齿轮、双曲型电极、精密筛、近红外滤波器（选频滤波器）、微弹簧，RF等。

产品介绍：

X射线光栅的制作流程 

吸收光栅

（a）准备光栅胶层

（b）掩膜光刻胶层在X射线下曝光

（c）形成精细的光刻胶结构

 (d）电镀金形成X射线光栅结构 

产品特点：

• 高纵横比结构

•  极小周期

• 大面积X射线

   标准结构面积

   4英寸基板： 70~90mm的直径

   6英寸基板：高达110mm(在某些情况

               有限制）

   更大尺寸选项

   拼接多个光栅面板

   在单个制作工艺上扩大结构面积（研发）

• 弯曲光栅

    椎束照射高纵横比光栅，为了避免影像影响，可采用弯曲光栅，可使用特殊的夹具来运输

主要应用：

• 用于Talbot干涉仪的X射线光栅

微焦源Talbot干涉成像仪

光源：微焦X射线管

E=25keV

加速电压：40KV

电流：120 μA

G1：周期4.37 μm(Ni)

G2： 周期2.4μm(Au）

在SR装置BL-14C线站的Talbot干涉实验

E=17.8 keV

   Al 滤片 2.0 mm

G1：周期 2.4 μm (Ni）

G2：周期 2.4 μm (Au）