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面议
半导体检测仪 301 Single Wafer Cleaning System单晶圆清洗系统EVG 301 单晶圆清洗系统
产品属性
品牌
EVG
产地
奥地利
型号
EVG 301 单晶圆清洗系统
关注度
0
信息完整度
关闭
产地:奥地利; 品牌:EVG
PIPES指数:
7.7
用户:
0
新闻:
0
应用:
0
产品描述
EVG 301 单晶圆清洗系统
EVG 301 研发型单晶圆清洗系统
EVG301 半自动化单晶片清洗系统
该清洗站使用标准的去离子水冲洗以及超音速,毛刷和稀释化学药品作为附加清洗选项来清洗晶片。
EVG301具有手动加载和预对准功能,适用于灵活的清洁程序和300mm的能力。
EVG301系统可与EVG的晶圆对准和键合系统结合使用,以消除晶圆键合之前的任何颗粒。
旋转夹头可用于不同的晶圆和基板尺寸,从而可以轻松设置不同的工艺。
特征使用1MHz的超音速喷嘴或区域传感器(可选)进行高效清洁
单面清洁刷(选件)用于晶圆清洗的稀释化学品
防止从背面到正面的交叉污染
完全由软件控制的清洁过程选件
带有红外检查的预粘接台非SEMI标准基材的工具
技术数据
晶圆直径(基板尺寸)200、100-300毫米
清洁系统:开室,旋转器和清洁臂
腔室:由PP或PFA制成(可选)
咨询******微信同号)
北京亚科晨旭科技有限公司
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