OpAL系统是一种直接开放式热原子层沉积（ALD）设备，其中包含等离子体选项。它可以轻松升级为等离子体ALD，实现在一个紧凑的设备中结合等离子体和热ALD。这款紧凑型直开式热原子层沉积（ALD）设备，带有等离子体选项，适用于小尺寸至200mm的晶圆片，能够蒸汽吸取或鼓泡四种液体或固体前驱体，并实时检测选项，包括与ALD控制软件相连的光谱椭偏仪。OpAL系统可以通过简单易行的方式升级为等离子体，从而在一个紧凑的设备中实现等离子体和热ALD。牛津仪器拥有丰富的工艺储备，不断开发新的工艺。我们为所有的ALD设备提供终身免费的、持续不断的工艺支持，还将为您提供关于开发新材料的建议，继续与您分享包括新工艺配方在内的新的ALD工艺进展。设备特点：可配备带有样品传送入口的氮气吹扫手套箱，适用于干燥环境；易于拆卸的内腔室，减少腔室清洗时间；机柜可安装在抽气管路上并附带氮气吹扫，以确保健康和安全；气动起重装置，用于安全打开腔室；可配备抽气罩或氮气吹扫手套箱，以确保健康和安全。应用：纳米电子高K栅氧化物储存电容电介质；Cu互连的高深宽比扩散隔层；OLED和聚合物的无针孔钝化层；晶体硅太阳能电池的钝化；微流体和MEM的高保形涂层；纳米多孔结构的涂层生物MEMS燃料电池。