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原子层沉积(ALD)ForgeNano流化床原子层沉积系统
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原子层沉积(ALD)ForgeNano流化床原子层沉积系统
PIPES指数:7.7用户:应用:

型号型号:PROMETHEUS

品牌品牌:ForgeNano

产地产地:美国

复纳科学仪器(上海)有限公司

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核心参数
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产品描述
PROMETHEUS流化床原子层沉积系统粉末包覆能够有效增强材料性能和使用寿命,特别是锂电池的正极或负极材料。经过表面包覆处理后,放电性能和循环使用寿命都有显著提升。然而,目前工业上主要采用机械混合的干法进行包覆,导致包覆均匀性较差,性能提升有限。ALD技术能够实现高精度和均匀包覆,是理想的包覆手段。ForgeNano采用流化床技术来处理粉末类材料,以确保前驱体与粉末充分接触。P系列是ForgeNano专为工业包覆研发的粉末ALD负载系统,可实现大批量粉末包覆,是工业生产前的理想选择。

产品规格:
1. 前驱体通道:2-8
2. 腔室容量:0-600ml
3. 反应器温度:450℃
4. 最高工艺温度:200℃
5. 振动流化床反应器
6. 模块:流化辅助,质谱,臭氧发生器,等离子体发生器

产品特点:
P系列是ForgeNano专为粉末ALD开发的研发级工具,可轻松实现大批量粉末包覆。使用流化床技术可以确保粉末在反应器中的分散,有利于前驱体扩散。流化辅助模块和振动反应器设计可防止粉末团聚,保证分散效果。所有前驱体源均可独立加热,确保最佳运输条件。P系列还拥有独特的阀门控制系统,可实现多通道前驱体输送。配置气体在线分析系统,对ALD工艺的改善有较大帮助,使用者可通过气体成分判断反应的完成度。

应用领域:
锂电池:锂电池的正极或负极材料经过包覆能够有效提升放电性能和使用寿命。常见的NCM和磷酸铁锂,在表面包覆Al2O3等氧化物薄膜后,在经过多次放电后,仍可保持较高的能量密度。

3D打印:3D打印粉末存在腐蚀及表面氧化的问题,会影响最终器件的性能。通过表面涂层改性,可有效延缓氧化及腐蚀。传统的包覆方式是在器件表面进行ALD沉积,但对于3D打印粉末,直接对原材料粉末改性无疑是更有效的手段。

催化:催化反应大多数是发生在材料表面的界面反应,因此对于催化剂材料进行表面构筑改性是有效的性能提升手段。利用ALD可以直接在粉末,纤维材料表面生长高活性纳米涂层,另一种方法是利用模板法结合ALD在表面构筑特定结构,暴露活性位点。此外,也可以在特定的颗粒表面进行表面包覆,防止催化剂烧结团聚。
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