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原子层沉积(ALD)ForgeNano流化床原子层沉积系统
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原子层沉积(ALD)ForgeNano流化床原子层沉积系统
PIPES指数:7.7用户:应用:

型号型号:PROMETHEUS

品牌品牌:ForgeNano

产地产地:美国

复纳科学仪器(上海)有限公司

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核心参数
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产品描述
PROMETHEUS流化床原子层沉积系统,粉末包覆可显著提高材料性能和使用寿命,尤其是锂电池的正负极材料。目前工业采用的机械混合干法包覆存在均匀性差和性能提升有限的问题。ALD技术可以实现高精度和均匀包覆,是理想的包覆手段。ForgeNano利用流化床技术确保粉末材料的流化,从而保证前驱体与粉末充分接触。P系列是ForgeNano专为工业包覆研发的粉末ALD负载系统,可批量包覆千克级粉末,是最理想的工业生产工具。

产品规格:
1. 前驱体通道:2-8
2. 腔室容量:0-600ml
3. 反应器温度:450℃
4. 最高工艺温度:200℃
5. 振动流化床反应器
6. 模块:流化辅助,质谱,臭氧发生器,等离子体发生器

产品特点:
P系列是ForgeNano专为粉末ALD开发的研发级工具,可轻松实现千克级粉末包覆。使用流化床技术可保证粉末在反应器中的分散,有利于前驱体扩散。流化辅助模块和振动反应器可冲散团聚颗粒,确保分散效果。所有前驱体源均可独立加热,保证最佳运输条件。P系列也有独特的阀门控制系统,可以实现多通道前驱体输运。配置了气体在线分析系统,对ALD工艺的改善有较大帮助。

应用领域:
- 锂电池:锂电正负极材料的包覆可提升其放电性能和使用寿命。
- 3D打印:表面涂层改性可延缓氧化和腐蚀。
- 催化:利用ALD可以直接在粉末和纤维材料表面生长高活性纳米涂层。
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