技术参数：

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● 采用节能环保设计理念，采用阻抗控制技术，有效抑制超纯水中的静电产生。

● 在半导体制造和FPD制造、晶元（芯片）切割工序中，用于优化控制超纯水的阻抗，防止静电破坏和微粒附着。

● 先进的电阻控制技术可消除高纯水中的静电荷。

● 可在半导体行业的切片工序或FPD的高压洗涤工序中控制清洗水的电阻率。

● 可避免因静电放电或颗粒吸附而导致设备损坏，并大大提高产品的良率。主要特点：

● 可根据需求选择相应型号，安装简便。

● 全系列产品均配备阻抗探头，管路布置方便。

● 大流量，压力损失小，当水量为3000升/小时时，压力损失仅0.06兆帕。

● 操作简便，控制精度高，开机后只需设定所需阻抗值，即可精确控制在±0.03兆欧/厘米。

● 可在高水压环境下运行，压力可达0.5兆帕，可灵活配置不同工艺。

● 水量变化响应迅速，即使水量发生较大变化也能快速调整控制。

● 经济环保，无需昂贵的消耗品如Co2溶解膜等传统设备，也无需排放Co2和废水。

● 支持过氧化氢消毒处理，使用3%过氧化氢可进行杀菌，无需担心细菌繁殖。